石英玻璃在半导体工业设备上，运用温度经常在1000℃至1300℃之高温状态，在此种状态下由于附着不纯物招致失透现象发作，失透之局部为石英之晶质化，晶质化之变态点为275℃，当石英玻璃自高温降至此变态温度时，外表失透之晶质化局部与石英玻璃自身高温之α相与低温之β相间收缩系数不同在急速冷却下产生不透明之剥离状，更严重时会形成决裂现象产生。为使石英制品能运用更久，就必需留意避免形成石英失透产生的缘由，而形成失透的污染源就属碱金属、碱土金属、汗水、口水、油污、尘埃……等等。且0.1mg/cm2就会形成数十倍或数百倍的失透量。

    因而，避免这些污染源附着在石英外表上除了不直接用空手去拿石英外，运用在高温作业之前必先做清洗之工作以确保石英外表之干净度。

    普通石英之洗净需要一些程序，首先用纯水先冲洗外表，再置入酸洗槽内浸泡一些时间，取出后再用纯水冲洗后晾干。